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硅外延层中的杂质
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摘要
主掺杂质、固态外扩散杂质、气相自掺杂质、系统自掺杂质和金属杂质等五类杂质源是外延层中的常见杂质。主掺杂质决定外延层的电阻率。固态外扩散、气相自掺杂和系统自掺杂影响衬底界面附近的外延层杂质浓度的深度分布。金属杂质在外延层中对器件有害。本文系统地介绍了掺杂源的掺杂过程也给出了控制的方法。
作者
闵靖
机构地区
上海市计量测试技术研究院
出处
《集成电路应用》
2003年第2期61-65,70,共6页
Application of IC
关键词
硅外延层
增强吸杂外延
滞留层
主掺杂质
固态外扩散杂质
金属杂质
气相自掺杂质
系统自掺杂质
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
TN305.3 [电子电信—物理电子学]
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