氮化镓薄膜制备技术
出处
《科技开发动态》
2003年第3期52-52,共1页
R&D Information
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1吴晓飞,郗雨林.ITO薄膜性能、应用及其磁控溅射制备技术的研究[J].热加工工艺,2013,42(2):88-90. 被引量：7
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2周立军.半导体材料的发展及现状[J].新材料产业,2001(5):23-25. 被引量：2
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3崔朝宏.21世纪的硅基材料——SOI[J].电子工艺技术,2000,21(2):57-59.
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4张忱.从原料熔体制作晶体薄膜[J].电子材料快报,1995(4):10-11.
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5郭广生,杨福明.超微粒子的激光制备技术及展望[J].激光技术,1993,17(6):325-330. 被引量：6
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6崔朝宏.21世纪的硅基材料——SOI[J].新材料产业,2000(11):32-34.
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7庶民.单分子积层膜制备技术[J].电子材料快报,1998(9):3-3.
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8刘梅冬.铁电薄膜材料及其制备技术的发展[J].电子元件,1996(3):74-76. 被引量：2
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9孟令健,王鹏,李雷.铁电薄膜材料综述[J].科技信息,2011(15). 被引量：2
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10肖恺,于贵,刘云圻,朱道本.有机场效应晶体管研究和应用进展[J].科学通报,2002,47(12):881-890. 被引量：6
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