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薄膜晶体管制造中的薄膜成形装置
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职称材料
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作者
彭补之
出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2003年第4期76-76,共1页
Materials Protection
关键词
薄膜晶体管
制造
薄膜成形装置
等离子体化学气相沉积装置
分类号
TN321.5 [电子电信—物理电子学]
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李大勇,刘明,Wei Wang.
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.Journal of Semiconductors,2007,28(9):1337-1340.
材料保护
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