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SnO_2/Fe_2O_3双层薄膜的界面结构及其对气敏特性的影响 被引量:1

Interfacial Microstructures of SnO_2/Fe_2O_3 Bilayer andIts Influence on Gas-Sensitivity of SnO_2
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摘要 本文给出用等离子化学气相沉积 (PCVD)技术制备的SnO2 /Fe2 O3 双层薄膜结构的俄歇谱 (AES)剖面分析、透射电镜 (TEM)断面形貌和扫描电镜 (SEM)表面形貌的实验研究结果。AES剖面分析和TEM断面形貌图显示在SnO2 与Fe2 O3 界面区有一个约 35nm厚的过渡层存在 ,其质地松散。实验还发现这个界面过渡层的存在缓解了层间应力 ,增强了SnO2 薄膜的附着力 ,对该双层膜的气敏特性有明显的控制作用 ;但当SnO2 层厚大于 2 70nm时 。 The SnQ2/Fe2O3 bilayer, grown by plasma chemical vapor deposition (PCVD), was studied with transmission electron microscopy (TEM), scanning electron microscopy (SEM) and Auger electron spectroscopy (AES). The AES depth profiles and TEM section analyses show that a soft transition layer, about 35 nm in thickness, exists at the interface of SnO2/Fe2Q3. We found that the interfacial transition layer favorably relaxes the stress, increases the adhesion of SnO2 on Fe2O3 and markedly controls the gas-sensitivity of the bilayer. However, hardly the influence the transition layer on gas-sensitivity can hardly be observed when SnO2 thickness exceeds 270 nm.
出处 《真空科学与技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期79-84,共6页 Vacuum Science and Technology
基金 深圳市科技局资助项目 ( 2 0 0 0 12 ) 深圳大学科研基金资助项目 ( 9913 )
关键词 SnO2/Fe2O3双层薄膜 界面结构 气敏特性 等离子化学气相沉积 气敏传感器 稳定性 二氧化锡 氧化铁 Adhesion Auger electron spectroscopy Plasma enhanced chemical vapor deposition Scanning electron microscopy Thin films Tin compounds
  • 相关文献

参考文献5

二级参考文献24

  • 1赵永生,阎大卫,马晓翠,康昌鹤,邹慧珠.PECVD方法制备SnO_2气敏薄膜的电子显微镜研究[J].功能材料,1994,25(2):144-149. 被引量:4
  • 2王连驰,半导体敏感器件,1986年,1卷,43页
  • 3马晓翠,1990年
  • 4曾恒兴,传感技术学报,1990年,3卷,47页
  • 5马晓翠,仪表材料,1990年,21卷,159页
  • 6康昌鹤,气温敏感器件及其应用,1988年
  • 7阎大卫,Vacuum,1991年,42卷,919页
  • 8马晓翠,半导体学报,1991年,12卷,423页
  • 9马晓翠,1990年
  • 10马晓翠,仪表材料,1990年,21卷,159页

共引文献19

同被引文献1

引证文献1

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