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正性光刻胶组成物及由其制成的多层抗蚀材料
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职称材料
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出处
《网络聚合物材料通讯》
2003年第1期11-11,共1页
关键词
正性光刻胶
组成物
制备
多层抗蚀材料
分类号
TQ437.9 [化学工程]
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Juan Liu,Zhengping Liu,Liyuan Wang,Haiyan Sun.
Single-component chemically amplified i-line molecular glass photoresist based on calix[4]resorcinarenes[J]
.Chinese Science Bulletin,2014,59(11):1097-1103.
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网络聚合物材料通讯
2003年 第1期
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