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ICP-AES测定电镀高纯铜中微量磷 被引量:5

Determination of Micro Phosphorus in Electroplate Copper by ICP-AES
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摘要 用浓 HNO3溶解高纯铜试样 ,电感耦合等离子体发射光谱 ( ICP- AES)测定其中微量磷 ,并对试样处理、测试方法、提高灵敏度等条件进行了优化实验。结果表明 ,方法回收率为 99.0 7%— 10 2 .0 % ,RSD( n=6)为 0 .2 2 %— 0 .2 5 %。 The micro amounts of phosphorus in electroplate copper dissolved with HNO 3 were determined by ICP-AES under the optimized experimental conditions.The recovery of this method is in the range of 99.07%-102.0%,and the RSD(n=6) is in the range of 0.22%-0.25%.
出处 《光谱实验室》 CAS CSCD 2003年第3期367-369,共3页 Chinese Journal of Spectroscopy Laboratory
关键词 ICP-AES 测定 电镀 高纯铜 微量分析 电感耦合等离子体-发射光谱 ICP-AES,Phosphorus,Electroplate Copper.
  • 相关文献

参考文献2

  • 1关雄俊,李德芳,蒋天成,谢涛.ICP-AES法测定锡青铜中锡和磷[J].理化检验(化学分册),1999,35(2):88-88. 被引量:8
  • 2.GB 8002.3—87.锡青铜化学分析方法(中华人民共和国进出口商品检验标准.)[S].北京:中国标准出版社,1996..

共引文献7

同被引文献622

引证文献5

二级引证文献33

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