光学光刻和相应的抗蚀剂的进展
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2野野垣,李光强.展望90年代的抗蚀剂[J].电子材料（机电部）,1991(12):14-19.
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3娄兰芳,马钟棉.超LSI用的抗蚀剂[J].电子工艺技术,1991(3):61-62.
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4候茜坪.印刷线路板用抗蚀剂[J].天津化工,1992(2):38-41.
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5夏明德,浦家诚.抗蚀剂近年发展动态[J].感光材料,1989(5):21-25. 被引量：2
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6文汉,金阁.集成电路用抗蚀剂[J].电子材料（机电部）,1991(7):1-21.
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10周崇喜,胡松.光学光刻的现状及未来[J].电子工业专用设备,1999,28(2):2-4. 被引量：4
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