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单晶硅表面无掩膜极微细加工成形的研究

Ultramicro-formation on Surface of Single Crystal Silicon Without Masking
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摘要 对单晶硅表面进行极微细加工中 ,直接用摩擦力显微镜机构 ( FFM)进行机械加工 ,然后用 KOH溶液对加工基片腐蚀 ,发现被加工部位能形成凸台 ,对影响凸台成形的各种因素进行了试验研究 ,并介绍了这种新式成形工艺的应用实例。
出处 《新技术新工艺》 北大核心 2003年第5期15-17,共3页 New Technology & New Process
关键词 单晶硅 掩膜 极微细加工 FFM 腐烛 摩擦力显微镜机构 微电子技术 maskless, ultramicro formation, FFM, etching
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