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单晶硅表面无掩膜极微细加工成形的研究
Ultramicro-formation on Surface of Single Crystal Silicon Without Masking
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摘要
对单晶硅表面进行极微细加工中 ,直接用摩擦力显微镜机构 ( FFM)进行机械加工 ,然后用 KOH溶液对加工基片腐蚀 ,发现被加工部位能形成凸台 ,对影响凸台成形的各种因素进行了试验研究 ,并介绍了这种新式成形工艺的应用实例。
作者
何友义
徐盛林
机构地区
广东番禺理工学院
武汉江汉大学
出处
《新技术新工艺》
北大核心
2003年第5期15-17,共3页
New Technology & New Process
关键词
单晶硅
掩膜
极微细加工
FFM
腐烛
摩擦力显微镜机构
微电子技术
maskless, ultramicro formation, FFM, etching
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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新技术新工艺
2003年 第5期
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