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深亚微米标准单元库的设计与开发 被引量:7

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摘要 随着深亚微米工艺技术的发展,0.18μm COMS 工艺已成为国际主流的集成电路工艺标准。国内的深亚微米工艺也日趋完善,我们首家针对中芯国际0.18μm工艺,成功设计开发了0.18μm标准单元库。本文简要介绍了0.18μm标准单元库的设计与开发。
机构地区 芯原微电子
出处 《中国集成电路》 2003年第49期32-35,40,共5页 China lntegrated Circuit
  • 相关文献

参考文献4

  • 1Jean-Marc Masgonty,et al.“Low-Power LowVoltage Standard Cell Libraries with a Limited Number of Cells”. http://patmos2001. eivd.ch/ .
  • 2D.G.Chinnery,K.Keutzer."Closing the Gap Between ASIC and Custom"[]..2002
  • 3http://www.synopsys.com .
  • 4Wolfgang Roethig,et al.“Power and Timing Modeling for ASIC Designs”[]..

同被引文献35

引证文献7

二级引证文献7

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