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光刻胶之关键技术
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摘要
光刻胶长期以来即被广泛地运用在各类产业中。以电子工业及IC工业为例,由于光刻胶具备感光成像之特性,可将微细线路刻画于各种基板上,对于计算机电路板、液晶显示面板及集成电路器件等产品的微影光刻加工程序,是不可或缺的关键材料。近年来,在电子器件愈做愈小的趋势下,光刻胶的性能。
作者
潘家立
陶玉柱
出处
《集成电路应用》
2003年第6期75-76,共2页
Application of IC
关键词
光刻胶
配方
超洁净
超微量分析
应用检测
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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