吉时利(Keithley)与Novellus共同开发自动诊断测试系统
出处
《电子元器件应用》
2003年第6期69-69,共1页
Electronic Component & Device Applications
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1KEITHLEY与NOVELLUS共同开发自动诊断测试[J].今日电子,2003(6):70-70.
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2吉时利与Novellus共同开发自动诊断测试[J].电子测试,2003(6):120-120.
-
3王鹏飞,张卫,王季陶,李伟.用作超大规模集成电路低k材料的有机薄膜[J].微电子技术,2000,28(1):31-36. 被引量:9
-
4三菱推出耐用型低绝缘值材料[J].现代电子技术,2004,27(22):116-116.
-
5高荣.低K材料在半导体集成电路中的应用与展望[J].集成电路应用,2006,23(8):52-52.
-
6R. Kregting,O. van der Sluis,R.A.B. Engelen,W.D. van Driel,G.Q. Zhang.用于后端工艺中铜/低k材料金属去除的实验数值研究(英文)[J].电子工业专用设备,2006,35(9):51-58.
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7刘文俊.a-C:F碳:一种坚固的低K材料[J].微电子技术,1999(3):60-60.
-
8Peter Singer.Air Gaps:小题大作[J].集成电路应用,2007,24(9):29-29. 被引量:1
-
9王立冉,邢哲,刘玉岭,胡轶,刘效岩.碱性抛光液在CMP过程中对低k介质的影响[J].半导体技术,2012,37(1):29-32. 被引量:2
-
10苏祥林,吴振宇,汪家友,杨银堂.低k层间介质研究进展[J].微纳电子技术,2005,42(10):463-468. 被引量:7