快速生长金刚石薄膜的装置及其工作性能

High-rate Diamond Film Deposition Apparatus and Its Working-property

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摘要本文设计了用直流电弧等离子体喷射法快速生长金刚石薄膜的装置,并对其工作性能进行了研究。 The present paper covers the apparatus for high-rate diamond film deposition by DC arc plasma jet method and its working-property.

作者白亦真吕宪义金曾孙邹广田

机构地区吉林大学原子与分子物理研究所

出处《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 1992年第3期69-72,共4页 Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Jilinensis

关键词快速沉积金刚石薄膜沉积装置 high-rate deposition diamond film deposition apparatus

分类号 O484 [理学—固体物理]

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吉林大学自然科学学报

1992年第3期

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