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TiN薄膜对磁性附着体铁铬钼合金磁力影响的研究
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摘要
目的:研究应用离子束辅助沉积制备氮化钛薄膜后,对磁性附着体磁力的影响。方法:应用电子拉伸机测量镀膜前后磁性附着体磁力大小。结果:镀膜前后磁性附着体磁力无明显改变,统计学分析无显著性差异(P>0.05)。结论:磁性附着体铁铬钼合金经表面镀膜后,磁力无改变。可以应用离子束辅助沉积技术对磁性附着体进行表面处理。
作者
孙世尧
赵铱民
张浚睿
张玉梅
马明
宋忠孝
机构地区
第
第四军医大学口腔医学院
西安交通大学医院
出处
《临床医药杂志》
2003年第2期5-7,共3页
关键词
TIN薄膜
磁性附着体
铁铬钼合金
磁力
影响
镀膜
离子束辅助沉积
口腔修复
分类号
R783 [医药卫生—口腔医学]
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临床医药杂志
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