EM-5009b激光图形发生器漏曝和曝光移位现象研究
摘要
针对EM-5009b激光图形发生器出现漏曝、曝光移位问题，通过实验和分析。总结了产生漏曝、曝光移位现象的一些原因。
-
1邓建国,刘玉奎,印子华,邹昭伟.EM-5009B激光图形发生器光栏的修正方法[J].微电子学,2005,35(6):591-593.
-
2高强,赵海法.EM-5009B激光图形发生器的数据处理[J].微处理机,1998,19(4):11-14.
-
3田振文.ЭМ-5009Б激光图形发生器结构原理及维修实例[J].半导体情报,1998,35(4):56-58.
-
4钱敏.Micronic革新图形技术与客户双赢[J].集成电路应用,2006,23(10):14-14.
-
5蒋玉贺.5009激光图形发生器曝光实验[J].微处理机,2014,35(6):12-13.
-
6田振文,刘贵增,王维军.大幅提高ЭМ-5009Б激光图形发生器的曝光速率[J].半导体情报,1999,36(5):63-64.
-
7ISI-2802激光直写系统简介[J].光电工程,1997,24(S1):113-113.
-
8梁宜勇,白剑,杨国光.激光图形发生器调焦系统设计[J].光电子．激光,2005,16(10):1202-1205. 被引量：1
-
9梁宜勇.离焦写入线宽的动态高斯模型[J].光学学报,2006,26(5):726-729. 被引量：2
-
10梁宜勇,顾智企,章哲明,闫玮,杨国光.稳定线宽的过曝光控制[J].浙江大学学报（工学版）,2006,40(1):49-52. 被引量：1
