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SEZ揭开业界最高产的采用90-NM技术标准的单晶湿处理清洗系统的神秘面纱

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摘要半导体业界领先的单晶清洗技术创新技术的先驱者 SEZ 集团于近日发布了公司在湿表面预旋转处理技术上的重大突破,在目前的单晶处理方法中。

出处《中国集成电路》 2003年第50期22-22,共1页 China lntegrated Circuit

关键词 SEZ集团 90-NM技术单晶湿处理清洗系统半导体生产工艺

分类号 TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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中国集成电路

2003年第50期

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