一种新型掩模板设计方法被引量：1

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摘要 1 概述本文介绍一种在同一块掩模板上制作多个掩模工程的新型掩模板设计方法-MLM(Multi-Layer Mask)。该方法可以实现集成电路开发设计中,掩模板制作费用的大幅下降,极大地降低集成电路产品开发成本。

作者来凯泉周京英倪凌云曹余新

机构地区上海华虹NEC电子有限公司Foundry部

出处《集成电路应用》 2003年第7期41-43,共3页 Application of IC

关键词掩模板 MLM 上海华虹电子有限公司集成电路光刻掩模

同被引文献1

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集成电路应用

2003年第7期

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