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纳米SiO_2在紫外光固化体系中的分散稳定性 被引量:4

Dispersing Stability of Nano - Scale Silica in UV Curing System
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摘要 将纳米SiO_2分散到紫外光固化体系,通过紫外光原位固化制得纳米SiO_2/聚丙烯酸酯复合涂层。纳米SiO_2的分散稳定性受活性稀释单体、齐聚物和纳米SiO_2含量等因素影响。红外光谱测试表明,纳米SiO_2与有机基料产生相互作用。TEM表明,复合涂层中纳米SiO_2呈有效的分散状态。 The nano - scale silica was dispersed in UV curing system and cured under UV light to prepared a nano - scale silica / polyacry-late compound coatings. The dispersing stability of nano - scale silica was influenced by active diluents, oligomers, and amount of nano - scale silica. The infrared test result has shown the reaction of nano - scale silica with organic binders; and the TEM test result has shown that silica was effectively dispersed in the compound coatings film.
出处 《涂料工业》 CAS CSCD 2003年第8期12-14,共3页 Paint & Coatings Industry
基金 安徽省自然科学基金(00046313) 安徽省教育厅科研基金(2001kj237zd)
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