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低压反应离子镀的物理过程 被引量:2

Physical process of reactive low voltage ion plating
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摘要 通过观察和分析 ,指出低压反应离子镀中材料经过了蒸发、电离、飞行、加速和沉积五个阶段 ,定性解释了对能谱和质谱的测量结果 ,比较全面、细致地描绘了低压反应离子镀的物理图像。 The particles of starting material experience evaporation, ionization, flight, acceleration and deposition in the process of reactive low voltage ion plating are presented. This idea can better understand the experiment results about mass and energy spectrum of ion species.
出处 《真空》 CAS 北大核心 2003年第4期23-25,共3页 Vacuum
基金 国防预研基金资助项目 (项目号略 )。
关键词 低压反应离子镀 物理过程 能谱 质谱 真空镀膜工艺 reactive low voltage ion plating thin film
  • 相关文献

参考文献4

  • 1司磊.[D].长沙:国防科技大学,1996.
  • 2H. K. Pulker. Modern Optical Coating Technologies for Low-loss Dielectric Films [J]. Proc. SPIE, 1988, 952:788.
  • 3K. H. Guenther. Recent Progress in Optical Coating Technology: Low Voltage Ion Plating Deposition [J]. Proc. SPIE, 1990,1270:211.
  • 4Johannes Edlinger, Hans K. Pulker. Ion Current and Energies in Reactive Low-voltage Ion Plating---Pre-liminary Results[J]. Proc. SPIE, 1990,1323 : 19.

同被引文献12

引证文献2

二级引证文献3

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