摘要
纳米 SiO_2粉体的制备是以硅酸钠和盐酸为原料,添加适宜的稳定剂(非离子表面活性剂)和分散剂,在适宜的 pH 值和温度下,采用化学沉淀法合成。要得到性能优良的纳米 SiO2粉体,最佳工艺条件为:温度20~40℃,pH 6,反应液质量浓度 P1=20g/L,ρ2=1.20g/L,反应时间15min。结果表明:制备的纳米 SiO_2粒径为30~50nm,比表面积大、分散性好、质量优良、可达到产业化的生产。
出处
《杭州化工》
CAS
2003年第3期5-7,12,共4页
Hangzhou Chemical Industry