德推出世界顶级芯片
出处
《现代材料动态》
2003年第10期24-24,共1页
Information of Advanced Materials
-
1德推出世界顶级芯片[J].中国计量,2004(6):54-54.
-
2王磊.氧气压力对PLD生长Ga2O3薄膜质量影响的研究[J].科学家,2016,4(6):163-165.
-
3宗祥福,翁渝民,刘开锋,范志能,李川,潘忠伟.砷化镓表面P_2S_5/NH_4OH钝化研究[J].应用科学学报,1994,12(3):196-202.
-
4沈少来,唐景昌,曹松,汪雷.Cl/GaAs(111)表面近边X射线吸收精细结构的多重散射研究[J].物理化学学报,2003,19(11):1054-1058. 被引量:1
;