摩尔定律与光刻工艺及设备
出处
《集成电路应用》
2002年第11期18-20,共3页
Application of IC
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1现实胜于预测[J].石油工业计算机应用,1998,6(1):52-52.
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2程路.GordonMoore:摩尔定律仍会持续十年[J].集成电路应用,2003,20(5):14-16. 被引量：1
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3王国永.技术进步是企业挖潜增效的重要途径──兼谈具有西钢特点的短平快技术改造[J].冶金经济与管理,1994(6):23-24.
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4邓群.光刻胶采购量精准预测模型的研究[J].北京工业职业技术学院学报,2013,12(4):119-122.
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5沈熙磊.KLA-Tencor加入Sematech光刻缺陷研究项目[J].半导体信息,2011,0(4):26-26.
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6刘维鹏,张志坚.当前乳品生产工艺及设备技术改造研究[J].中国科技投资,2013(A07):83-83.
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7Azores与Kromax建立分销合作关系[J].集成电路应用,2004,21(8):39-39.
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8蒋毕武.2005年山东饲料加工工艺及设备技术研讨会在济南召开[J].山东饲料,2005(5):55-55.
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9为半导体行业带来“洁净”塑料解决方案[J].现代塑料,2008(9):36-37.
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10Aaron Hand,卢文豪.下一代光刻技术(NGL)永无登场之日吗?[J].中国集成电路,2002,0(12):56-60.
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