FeMn／Co多层膜界面插入Bi前后的微结构分析

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摘要研究了FeMn／Co多层膜界面插入Bi前后微结构的变化。利用磁控溅射法制备了FeMn/Co多层膜，利用X射线小角反射和漫散射技术进行了表征，得到结果如下：插入Bi之前，在FeMn/Co界面处确实存在FeMnCo的成分混合存在，插入Bi之后，FeMnCo的成分中掺入了Bi。而且，在FeMn/Co界面处Fe，Mn，和Co的元素分布不相同。

作者麦振洪王俊丁永凡吴忠华王勇刘翠秀

机构地区中国科学院物理研究所及凝聚态物理中心中国科学院高能物理研究所

出处《北京同步辐射装置年报》 2002年第1期135-137,共3页

关键词 FeMn/Co多层膜 BI 微结构磁控溅射法界面反铁磁/铁磁交换偏置系统测量

分类号 O484 [理学—固体物理]

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