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离子辅助沉积氧化物薄膜的光学特性 被引量:3

OPTICAL PROPERTIES OF OXIDE COATINGS PREPARED BY ION ASSISTED DEPOSITION
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摘要 考察了不同离子、离子能量、离子束流密度等制备参数对离子辅助沉积的TiO_2、ZrO_2和SiO_2薄膜的折射率、吸收和激光损伤阈值等光学特性的影响。 Effects of ion energy, ion current intensity and ion species on refractive indices, optical absorptance and laser - induced damage thresholds of TiO2 , ZrO2 , SiO2 coatings deposited using ion assisted deposition were investigated.
出处 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 1992年第2期245-250,共6页 High Power Laser and Particle Beams
关键词 薄膜 离子辅助沉积 光学特性 coating, ion assisted deposition, optical property
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同被引文献20

  • 1王英剑,胡海洋,李庆国,范正修.用表面热透镜技术测量1315nm高反射硅镜弱吸收的研究[J].强激光与粒子束,2000,12(B11):87-90. 被引量:5
  • 2公衍生,王传彬,沈强,张联盟.氧化物功能薄膜材料的研究新进展[J].中国表面工程,2004,17(4):10-14. 被引量:9
  • 3吴周令,范正修.TiO_2/SiO_2、ZrO_2/SiO_2多层介质膜光学损耗及激光损伤研究[J].中国激光,1989,16(8):468-470. 被引量:11
  • 4周九林 张苑 杨德利.Ta2O5薄膜的低能离子辅助蒸镀.光学学报,1988,8(5):454-458.
  • 5.光学薄膜[M].上海:上海人民出版社,1976.79.
  • 6Martin P J, Macleod H A, Netterfield R P, et al. Ion-beam-assisted deposition of thin films[J]. Appl Opt, 1983, 22(1) :178--184.
  • 7Mcneil J R, Barron A C, Wilson S R, et al.Ion-saaited deposition of optical thin films: low energy vs high energy bombardment[J]. Appl Opt, 1984, 23(4):552--559.
  • 8Mcneil J R, Al-Jumaily J A, Jungling K C, et al. Properties of TiO2 and SiO2 thin films deposited using ion assisted deposition[J]. Appl Opt, 1985, 24(4):486--489.
  • 9Ensinger W. Low energy ion assist during deposition-an effective tool for controlling thin film microstructure[J]. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B, 1997, 127/128:796--808.
  • 10Willey R R. Practical design and production of optical thin films[M]. New York:Marcel Dekker Inc, 1996. 109.

引证文献3

二级引证文献16

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