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DMY-1型膜厚测量仪的原理与设计 被引量:1

Principle and design of the DMY-1 film thickness measuring instrument
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摘要 介绍了DMY-1型膜厚测量仪的原理与设计,给出了不同情况下膜层厚度测量公式,并对该仪器进行了实验,该仪器的测量精度:对于较薄膜为±2nm,对一般膜层为被测厚度的±2%~±5%。 This paper describes the principle and design of the DMY-1 film thickness measuring instrument. Equations for film thickness measurement under different conditions are presented. Experiments were made with this instrument, providing an accuracy of ±2 nm for thinner film and ±2% -±5 % of thickness for thick film.
出处 《清华大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第2期26-34,共9页 Journal of Tsinghua University(Science and Technology)
关键词 膜厚测量 分光光度法 CCD film thickness measurement, spectrophotometry, holographic concave grating, CCD device
  • 相关文献

参考文献4

  • 1薛实福,精密仪器设计,1991年
  • 2邹莉,1989年
  • 3范希安,光学学报,1984年,1期,68页
  • 4梁铨廷,物理光学,1980年

同被引文献1

  • 1范希安,王国权,程慧玲,邬敏贤,金国藩.计算全息位相补偿法制作全息凹面光栅的设计与实验[J]光学学报,1984(01).

引证文献1

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