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Self-Assembled Monolayers Exposed by Metastable Helium for Nano-Patterning: Octanethiol and Dodecanethiol 被引量:1

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出处 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2003年第11期2064-2066,共3页 中国物理快报(英文版)
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参考文献15

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引证文献1

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