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氯酸钠/盐酸型蚀刻铜再生剂之论述
被引量:
6
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摘要
简介 氯酸钠/盐酸型蚀刻铜再生剂适合于生产多层板的内层和塞孔与湿膜正片流程的印制-蚀刻板,所采用的抗蚀剂是网印抗蚀油墨或干膜抗蚀剂及液态光致抗蚀油墨、金等,不适合于锡-铅合金及纯锡抗蚀剂。其特点是蚀刻速率容易控制、侧蚀小、容铜量大、易再生和回收,减少污染。
作者
张志祥
机构地区
深圳市艾克化工开发部
出处
《印制电路信息》
2002年第3期40-42,共3页
Printed Circuit Information
关键词
氯酸钠
盐酸盐
蚀刻铜再生剂
印制蚀刻板
蚀铜机理
温度
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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