期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
明天的芯片生产技术
被引量:
2
下载PDF
职称材料
导出
摘要
虽然几年前就预测光刻将停止使用并由电子束代替它,但光刻仍可作为微型化的关键技术,没有它集成电路总是提高的集成密度和复杂性几乎是不可能的。新建的股份公司卡尔蔡司半导体制造技术公司于2001年10月才由半导体技术业务部门建立了一座物镜生产新工厂。
作者
盛水源
出处
《集成电路应用》
2003年第5期44-44,共1页
Application of IC
关键词
光刻
集成电路
激光束聚焦
曝光
电子束
芯片
生产技术
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
引文网络
相关文献
节点文献
二级参考文献
0
参考文献
0
共引文献
0
同被引文献
13
引证文献
2
二级引证文献
4
同被引文献
13
1
盛柏桢.Intel放弃157mm光刻技术[J].半导体信息,2003,(4):25-28.
2
童志义.
光学光刻技术现状及发展趋势[J]
.电子工业专用设备,2001,30(1):1-9.
被引量:7
3
Waikin Li,Harum H.Solak,Franco Cerrina,葛劢冲.
制作亚50nm L/S图形的极紫外纳米光刻技术[J]
.电子工业专用设备,2001,30(4):37-40.
被引量:2
4
童志义.
光学光刻现状及设备市场[J]
.电子工业专用设备,2002,31(1):2-6.
被引量:10
5
翁寿松.
ITRS 2001与芯片特征尺寸的缩小[J]
.微纳电子技术,2002,39(11):1-4.
被引量:11
6
翁寿松.
摩尔定律与半导体设备[J]
.电子工业专用设备,2002,31(4):196-199.
被引量:14
7
翁寿松.
90nm工艺及其相关技术[J]
.微纳电子技术,2003,40(4):40-44.
被引量:11
8
井田彻,西森浩友,天井秀美,确哲郎.
半导体设备与工艺技术的现状及新技术[J]
.电子工业专用设备,2003,32(3):6-11.
被引量:2
9
Hidetami Yaegashi.
应用于70nm及其以下的光刻技术的光刻胶制程控制[J]
.中国集成电路,2003,12(50):80-81.
被引量:1
10
高腾.
面向45纳米制造工艺的技术研究[J]
.集成电路应用,2003,20(7):49-51.
被引量:5
引证文献
2
1
翁寿松.
65nm/45nm工艺及其相关技术[J]
.微纳电子技术,2004,41(7):10-14.
被引量:4
2
翁寿松.
2005/2010年的全球半导体[J]
.电子工业专用设备,2003,32(6):8-12.
二级引证文献
4
1
翁寿松.
193nm光刻技术延伸方法[J]
.电子工业专用设备,2004,33(11):14-16.
被引量:2
2
翁寿松.
世界半导体设备的“十大”发展趋势[J]
.集成电路应用,2004,21(12):10-13.
被引量:2
3
翁寿松.
纳米器件的发展动态[J]
.微纳电子技术,2005,42(8):345-349.
被引量:8
4
翁寿松.
65nm工艺及其设备[J]
.电子工业专用设备,2006,35(2):18-20.
被引量:3
1
晴天.
用介质通道波导进行激光束聚焦[J]
.国外激光,1991(3):20-21.
2
激光调阻机[J]
.光机电信息,2010,27(8):83-83.
3
邱元武.
光子学在半导体工业中的应用[J]
.半导体光电,2002,23(2):142-144.
4
激光调阻机[J]
.光机电信息,2009,26(3):67-67.
5
激光调阻机[J]
.光机电信息,2011,28(5):74-74.
6
激光调阻机[J]
.光机电信息,2010,27(3):57-58.
7
激光调阻机[J]
.光机电信息,2009,26(8):56-57.
8
激光调阻机[J]
.光机电信息,2010,27(1):51-52.
9
激光调阻机[J]
.光机电信息,2010,27(4):59-60.
10
激光调阻机[J]
.光机电信息,2009,26(6):54-54.
集成电路应用
2003年 第5期
职称评审材料打包下载
相关作者
内容加载中请稍等...
相关机构
内容加载中请稍等...
相关主题
内容加载中请稍等...
浏览历史
内容加载中请稍等...
;
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部