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双层辉光离子渗金属电极结构的研究 被引量:16

Electrode structure in double glow surface alloying process
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摘要 通过对双层辉光离子渗金属技术的基本电极结构研究认为:电极结构可分为平板型、空心阴极型、不等电位空心阴极型和复合型等四种形式;通过实验证实,管状零件内表面离子渗金属的电极结构是正确的。 The electrode structure in the double glow ion diffusion metallizing technology include plate electrode, hollow cathode electrode, non-equal electric potential cathode electrode and compound electrode. The electrode structure used for ion diffusion metalling on the inner surface of the tube parts was obtained.
出处 《真空》 CAS 北大核心 2003年第6期31-33,共3页 Vacuum
基金 国家自然科学基金资助(50171054)
关键词 双层辉光离子渗金属技术 电极结构 表面改性技术 真空容器 电路系统 double glow ion diffusion metallizing electrode structure
  • 相关文献

参考文献14

二级参考文献34

  • 1徐重 古凤英.双层辉光离子渗金属技术[J].金属热处理学报,1982,(1):156-179.
  • 2边洁,1993年
  • 3王福贞,金属热处理,1992年,3卷,7页
  • 4郑维能,热加工工艺,1992年,6卷,3页
  • 5王从曾,太原工业大学学报,1990年,4卷,82页
  • 6徐重,金属热处理,1988年,3期
  • 7王福贞,88100549.5,1988年
  • 8徐重,87104358.0,1987年
  • 9徐重,UK 2150.602,1987年
  • 10徐重,Canadian Patent,1986年

共引文献159

同被引文献146

引证文献16

二级引证文献62

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