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光刻机曝光技术演进
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摘要
1 引言目前,集成电路已经从60年代的每个芯片上仅几十个器件发展到现在的每个芯片上可包含约10亿个器件,其增长过程遵从一个我们称之为摩尔定律的规律,即集成度每3年提高4倍。这一增长速度不仅导致了半导体市场在过去30年中以平均每年约15%的速度增长,而且对现代经济、国防和社会也产生了巨大的影响。
作者
白杉
出处
《集成电路应用》
2003年第12期3-6,共4页
Application of IC
关键词
集成电路
光刻机
光学曝光
准分子激光
极紫外曝光
限角散射电子束投影曝光
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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集成电路应用
2003年 第12期
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