摘要
一、概述: 我们对半导体净化工作的认识有个从实践——认识——再实践——再认识的过程。几年来的工作实践,使我们强烈的认识到净化工作对半导体事业所起到的巨大保证作用,它是半导体工艺基础之一,这种认识并不过分,只要我们认真总结一下几年的工作并调查一下国内外的情况,就会更加提高我们对净化工作的认识。为了赶超世界先进水平,大打净化之仗势在必行,抓晚了不行,搞晚了也不行,不抓不搞更不行。二、环境污染对半导体工艺的影响: 随着半导体集成电路日益地朝着高集成度发展,这就要求各元件尺寸愈来愈微细,而硅片的面积向大型化方向发展。以我国大规模集成电路而言,元件最细线条为5~6μ,而硅片面积为4×4mm^2以上。象这么高集成度的电路。
出处
《微电子学与计算机》
1977年第6期1-4,共4页
Microelectronics & Computer