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用对向靶溅射方法高速淀积磁性薄膜
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职称材料
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作者
范启华
出处
《四川真空》
1992年第3期28-31,共4页
关键词
溅射
磁性
薄膜
半导体
分类号
TN304.7 [电子电信—物理电子学]
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1
刘裕光,姜恩永,刘明升,程启.
对向靶溅射制备NiCr-NiSi薄膜热电偶的动态特性研究[J]
.真空科学与技术,1995,15(5):317-320.
被引量:1
2
材料制备工艺[J]
.电子科技文摘,2000(5):36-36.
四川真空
1992年 第3期
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