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如何掌握真空镀膜显现手印的方法
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摘要
真空镀膜显现手印是一种新的物理显现方法,它是在高真空条件下,使被镀物体表面沉积一层薄膜,以增强手印反差。如何掌握好金属分子的蒸发淀积,是直接影响镀膜质量的关键。根据我们的研究和试验,有以下几个重要因素:一、真空度金属元素在真空条件下被加热蒸发时,大量分子沿直线向四周喷射,真空度越高,气体压力越低,分子的平均碰撞次数越少,平均自由程就越长。
作者
沈大路
机构地区
公安部民警干校
出处
《刑事技术》
1980年第1期23-25,共3页
Forensic Science and Technology
关键词
真空镀膜
真空度
热蒸发
淀积
平均自由程
四氧化三铅
金属箔
毫米汞柱
小犁沟
气体压力
分类号
G6 [文化科学—教育学]
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