大孔径反应离子束蚀刻机
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
2004年第1期62-62,共1页
Laser & Optoelectronics Progress
-
1吴水清.我国印制电路蚀刻机发展的三个阶段[J].电子工业专用设备,1990(2):18-22.
-
2傅新定,方红丽,陈国明,邹世昌.反应离子束刻蚀闪耀光栅技术[J].应用科学学报,1989,7(3):260-262.
-
3彭钦海.蚀刻机的维护与保养[J].印制电路信息,2001(10):19-22.
-
4STS的MEMS晶圆深层蚀刻机赢得Bosch订单[J].集成电路应用,2005,22(10):22-23.
-
5STS新一代Pegasus晶圆深层蚀刻机赢得Bosch订单[J].集成电路应用,2005,22(9):27-27.
-
6STS新一代Pegasus晶圆深层蚀刻机赢得Bosch订单[J].半导体技术,2005,30(9):85-85.
-
7文献与摘要(69)[J].印制电路信息,2007(5):71-72.
-
8赵玉成,简水生,王圩,葛璜,安贵仁.啁啾光纤光栅特性研究[J].铁道学报,1996,18(6):29-32. 被引量：2
-
9陈光旭,陈弘.利用激光干涉的方法制备亚微米光栅结构图形衬底[J].科技创新与品牌,2012(1):72-73.
-
10应材新蚀刻机投产速度破纪录[J].电子世界,2015(19):5-5.
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