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Ti/N粒子沉积能量对氮化钛薄膜表面层微结构的影响 被引量：2

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摘要 用直流(d.c)反应磁控溅射沉积技术、X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜成像(TEM)微结构分析方法,研究了氮化钛薄膜表面层固态结构随凝聚增原子能量的变化情况.发现沿(111)和(002)晶面方向择优生长的TiNx层的点阵参数(a0)与衍射峰半高宽(FWHM)的变化和载能束引起薄膜微观相成分、晶面内压应力、晶粒尺寸和结构缺陷密度紧密相关.在新的理论框架下,分别计算了氮化钛薄膜表面上每个凝聚原子的有效迁移,薄膜表面达到最小能量状态时每个凝聚原子应该获得的平均能.实验观察的结果在理论分析中得到了定量解释.
作者 马忠权 张沁
机构地区 上海大学物理系 上海大学化学系
出处 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期53-56,共4页 Chinese Science Bulletin
关键词 TIN薄膜 粒子沉积能量 氮化钛薄膜 半导体 微结构
分类号 O484 [理学—固体物理]
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参考文献15

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同被引文献7

引证文献2

二级引证文献4

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2004年 第1期

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