缺陷与成品率——圆片规模集成技术介绍(一) 被引量：3

Defet and Yield——Parts 1 of the Introduction to Wafer Scale Integration

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摘要本文将讨论缺陷的起因、分类、分布规律及成品率模型. The sources of defects,its classification,its distribution and the yield models arediscussed in this paper.

作者任文杰沈绪榜

机构地区航空航天部骊山微电子学研究所

出处《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1991年第4期42-45,47,共5页 Microelectronics & Computer

关键词缺陷成品率圆片规模集成技术集成度集成电路 WSI Defect Yield

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微电子学与计算机

1991年第4期

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