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日光温室黄瓜的合理施肥
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摘要
一、整地施基肥。日光温室施基肥,不宜进行广泛的全面施法。应采用普施与局部集中施肥相结合。施肥的原则一是以产定肥,一亩地准备产多少斤黄瓜,以它的需要量来确定施肥量;二要科学配方施肥,根据土壤中现有肥料量和各种不同作物对各种元素的吸收量来确定。底肥一般亩施堆肥或厩肥10000公斤,过磷酸钙100—150公斤,饼肥300—500公厅。一半或2/3普施,深翻入土,不能留在表面。然后在整地的畦面上开60Cm宽的大沟,深20Cm,将剩下一半或1/3的肥料集中施入沟内。
作者
李岩
郭俊珍
韩庆丽
机构地区
安阳县农牧局
出处
《河南农业》
1996年第5期15-16,共2页
关键词
黄瓜
日光温室
施肥
基肥
追肥
分类号
S642.2 [农业科学—蔬菜学]
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