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纳米器件与干法刻蚀技术目前发展的特点

THE PRESENT DEVELOPING DISTINGUISHING FEATURE OF NANOMETRE DEVICES AND DRY-ETCH TECHNOLOGIES
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摘要 本文简要介绍了纳米器件中量子传输效应、电子速度过冲现象、以及典型的量子效应器件,并对干法刻蚀工艺在纳米器件加工中的重要意义和目前发展状况作了较详细的介绍。 The quantum tranemisson effect and electron velocity overshoot phenomenon in nanometre devices as well typical quantum effect devices are described briefly.In addition the important significance and developing situations of dry-etch technologies in nanometre devices fabrication are introduced in detail.
作者 刘金声
机构地区 航空航天部第
出处 《微细加工技术》 1992年第1期65-75,共11页 Microfabrication Technology
关键词 纳米器件 量子效应 干法刻蚀 Nanometre devices Quantum effect Dry-etch.
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