分子束外延设备

分子束外延（简称MBE）技术是近十年来基于真空蒸发技术发展起来的一门晶体生长新技术,它是在超高真空(10-10托)条件下,控制不同束流成分和密度的分子束,打在一定温度的单晶衬底上,按化学配比进行结晶外延生长的。MBE技术具有以下特点;生长速率慢,可控制在每秒零点几埃至每秒十几埃,因此可以生长几埃到几十埃厚度的超薄单晶膜。