摘要
大规模集成电路单晶硅片制作过程中需要大量的相关材料和化学品:其中需要大量的高纯和超净化学试剂,即微电子化学试剂,又称MOS试剂,我国仅能生产大于3μMOS的微电子化学试剂,而小于3μMOS试剂需进口,由于半导体技术的迅速发展,需要大量的更高水平的小于1μ亚微米化学试剂和小于0.5μ的深亚微米化学试剂,为了适应由我国迅速发展半导体市场对微电子化学试剂的需求,本文建议先通过合资和合作引进国外的先进生产工艺和高效的分离设备,然后经过消化和吸收,开发出更高水平的微电子化学试剂。
出处
《增塑剂》
2003年第4期30-35,共6页