NEC和Tokuyama联合推出用于8nm线宽的电子束光刻胶

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摘要 NEC公司和Tokuyama公司合作开发的电子束光刻胶能够实现8nm线宽的光刻,边缘粗糙度小于1nm。该电子束光刻胶的成分为氯甲基杯4芳烃,这种烃是由4个苯环结成的直径为0.7nm的环。该产品的原子量很小,因而可达到8nm的分辨率,同时这种材料不易结晶。

出处《集成电路应用》 2004年第1期47-47,共1页 Application of IC

关键词 NEC公司 Tokuyama公司电子束光刻胶 8nm线宽

1章从福.NEC和Tokuyama联合推出用于8nm线宽的电子束光刻胶[J].半导体信息,2004,0(3):32-32.
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集成电路应用

2004年第1期

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