氟化物玻璃的制备工艺研究

STUDIES ON THE PREPARATION OF FLUORIDE GLASSES

1 引言重金属氟化物玻璃(HMFG)具有良好的成玻能力,极宽的透过范围(0.23～7.5μm),优良的理化性能以及在2.5～3.5μm区域里具有超低理论损耗值(10^(-2)～10^(-3)dB/km),是超低损耗通讯光纤、红外窗口材料、导弹整流罩、红外传感传能等系统的理想材料,在通讯、科研及国防等许多领域具有广泛的应用前景,因而受到材料研究者的高度重视。国外已制备出小于1dB/km的氟化物光纤,但近几年光纤的损耗值无明显突破,而且此损耗值比理论值高得多,表明材料中还存在大量的非本征损耗因子,如过渡金属、稀土、OH-及其它阴离子杂质,微晶、分相等缺陷。因此,消除这些杂质及缺陷是得到高质量氟化物玻璃及低损耗光纤的关键。本研究将采用不同的工艺条件进行氟化物玻璃制备,研究工艺条件对ZrF_4—基玻璃主要性能的影响,以期制备出高质量的玻璃及光纤,并在此基础上进行放大试验研究。