高分辨X射线双晶衍射技术在半导体薄膜材料研究中的应用被引量：6

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摘要本文介绍了Ｘ射线双晶衍射技术的原理和对半导体外延膜的检测；对普遍关心的衬底与外延膜的点阵失配、膜厚和成分及其变化的测定、衬底和外延膜完美性的检测以及超晶格结构和非常薄的外延膜的评价等作了扼要的综述．

作者麦振洪

机构地区中国科学院物理研究所

出处《物理》 CAS 北大核心 1992年第3期181-186,共6页 Physics

基金国家自然科学基金资助项目

关键词半导体薄膜 X射线双晶衍射

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物理

1992年第3期

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