摘要
针对次100nm的生产,ASML研发了一个新光刻系统,其中克服了许多底k1解晰度的挑战。其中包含0.85NA双载具193nmTWINSCAN的设计、性能与一些初步的量测数据。80nm的生产必须要有多方面的量测与控制来达到高准确度的线宽(CD)与对准(Overlay)的要求水平。本机台拥有高成熟度的双载具平台,稳定的系统动态质(MSD),一惯性的光量递输等功能,幷包含了一个内建侦测回送系统来自动调控投影镜的像差(aberrations),来达到最佳的影像保真度。
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第2期7-11,34,共6页
Semiconductor Technology
