第二十讲 真空离子镀膜

No.20:Vacuum ion plating

13 真空阴极电弧离子镀13.l 概述真空阴极电弧离子镀简称真空电弧镀(Vacuum arc plating)。如采用两个或两个以上真空电弧蒸发源(简称电弧源)时,则称为多弧离子镀或多弧镀。它是把真空弧光放电用于蒸发源的一种真空离子镀膜技术,它与空心阴极放电的热电子电弧不同,它的电弧形式是在冷阴极表面上形成阴极电弧斑点。真空阴极电弧离子镀的特点是:①蒸发源为固体阴极靶,从阴极靶源直接产生等离子体,不用熔池,电弧靶源可任意方位、多源布置以保证镀膜均匀;②设备结构较简单,不需要工作气体,也不需要辅助的离子化手段,电弧靶源既是阴极材料的蒸发源,又是离子源;而在进行反应性沉积时仅有反应气体存在,气氛的控制仅是简单的全压强控制;③离化率高,一般可达60%~80%,沉积速率高;④入射离子能量高,沉积膜的质量和膜/基结合力好;⑤采用低电压电源工作,较为安全。