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应用材料推出新型Applied Quantum Ⅲ系统提高生产效能
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摘要
应用材料公司推出新型Applied Quantum Ⅲ,将系统低能量离子植入的生产效能做了业界上前所未有的提升。这套系统不仅在多数应用上增加了15—20%的离子束电流,并有效地缩短扫描时间,使得系统生产效率提高20—50%。
出处
《电子测试》
2004年第2期124-124,共1页
Electronic Test
关键词
应用材料公司
AppliedQuantumⅢ系统
生产效能
制造工艺
芯片
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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