光刻技术在微电子设备的应用及发展被引量：5

The Application and Development of Lithography Technology for Microelectronics Equipment in New Century

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摘要介绍了光刻技术在微电子领域的应用,具体分析多种短波长光刻技术的最新进展,并对在0.1μm之后用于替代光学光刻的下一代光刻技术的发展趋势作了展望。 The lLithography technology's application in microelectronic domain was presented, the newest progress of many kinds of shortwave length lithography technology was analysed concretely. The tendency of the next generation lithography technology development was forecasted.

作者刘加峰胡存刚宗仁鹤

机构地区合肥工业大学电气与自动化工程学院

出处《光电子技术与信息》 CAS 2004年第1期24-27,共4页 Optoelectronic Technology & Information

关键词微电子光刻下一代光刻技术 microelectronics lithography NGL(next generation lithography)

分类号 TN305 [电子电信—物理电子学]

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