期刊文献+

CVD与炭素 被引量:3

下载PDF
导出
摘要 一前言化学气相沉积(CVD)是一种较古老的技术,很早以前,人们就利用CVD技术生产碳黑、碳丝等物质。随着科学技术的进步,CVD本身也得到很大的发展,而且有新的改进,如等离子CVD,激光CVD等。这些新型CVD大大降低了沉积温度,使得CVD技术在材料科学各领域中得到更广泛的应用,同时又发展了性能更优越的新材料品种。在炭素材料领域由于利用CVD技术可使一些传统材料的性能得以改进,如在石墨表面用CVD技术涂覆多种涂层,如PG。
出处 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 1992年第2期1-6,12,共7页 New Carbon Materials
  • 相关文献

同被引文献34

  • 1郭正,赵稼祥.碳/碳复合材料的研究与发展[J].宇航材料工艺,1995,25(5):1-7. 被引量:54
  • 2颜月娥,黄启忠,邹林华,邹志强,黄伯云.航空刹车用C/C复合材料的应用与发展[J].新型炭材料,1996,11(3):13-17. 被引量:10
  • 3苏君明.高效高冲质比C/C喷管的应用与进展[J].新型炭材料,1996,11(4):18-23. 被引量:29
  • 4Savage G. Carbon-carbon composites [M]. London: Chapman and Hall, 1993: 85.
  • 5苏君明.高效高冲质比C/C喷管的应用与进展[J].新型碳材料,1996,11(3):18-23.
  • 6Somiya S, Inomata Y. Silicon carbide ceramics [M]. Amsterdam: Elsevier Applied Science, 1991: 15.
  • 7Allister P M, Hendricks J F. Modeling of chemical vapour infiltration of carbon in porous carbon substrates [J]. Carbon, 1991, 29: 387-396.
  • 8Becker A, Hattinger K J. Chemistry and kinetics of chemical vapor deposition of pyrocarbon Ⅱ : Pyrocarbon deposition from ethylene, acetylene and 1, 3-butadiene in the low temperature regime [J]. Carbon, 1998, 36(3): 177-199.
  • 9Becker A, Hattinger K J. Chemistry and kinetics of chemical vapor deposition of pyrocarbon Ⅲ : Pyrocarbon deposition from propylene and benzene in the low temperature regime [J]. Carbon, 1998, 36(3): 201-211.
  • 10Becker A, Huttinger K J. Chemistry and kinetics of chemical vapor deposition of pyrocarhon Ⅳ : Pyrocarbon deposition from methane in the low temperature regime [J]. Carbon, 1998, 36 (3) : 213-224.

引证文献3

二级引证文献20

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部