优化工艺减少CMOS电路的漏电流
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1徐大林,王方,李荫波,彭忠献,黄敬.应用于VLSI的PSSWS-LDD MOSFET优化工艺研究[J].Journal of Semiconductors,1990,11(2):127-135. 被引量：2
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2贾炜,侯洵,过晓晖,刘英,程科华.制备XS(X=Ca,Sr)的一种优化工艺[J].光子学报,1993,22(2):184-188.
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3任维彬,董世运,徐滨士,闫世兴,方金祥.FV520(B)钢叶片激光再制造动态形变规律及试验优化[J].哈尔滨工业大学学报,2017,49(5):173-177. 被引量：4
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