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成膜参量对“S”枪溅射制备的YBCO高温超导薄膜性能的影响

EFFECT OF DEPOSITION PARAMETERS ON THE PROPERTY OF YBCO SUPERCONDUCTING THIN FILMS PREPARED BY"S"GUN SPUTTERING
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摘要 利用“S”枪磁控油射源,采用单靶磁控溅射原位退火技术,详细研究了YBCO(YBaCuO的简缩)高温超导薄膜质量与主要工艺参数之间的关系。XRD分析表明,典型条件制备的膜具有C轴择优取向织构,RBS分析表明,此时的膜具有基本上1:2:3的理想组份。 The correlations between deposition parameters and the quality of YBCO superconducting thin films grown by'S' gun sputtering are studied in detail. The XRD curve suggests c-axis preferential orientation of the films. The RBS curve of a typical film is also given.
出处 《真空科学与技术》 CSCD 1992年第5期413-418,396,共7页 Vacuum Science and Technology
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