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Sol—Gel法制备PLT纳米薄膜及纳米粉体
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摘要
采用溶胶-凝胶技术以及旋涂法在ITO/玻璃上制备了PLT纳米薄膜,在PbO气氛中600℃退火1h,通过XRD、FTIR分析以及AFM分析得出,用此方法制备的PLT薄膜晶粒尺寸在30nm.左右,薄膜表面平滑无裂纹,只有钙钛矿结构出现,没有出现其他相。采用同种方法制备的PLT纳米粉体尺寸在20nm左右,这表明,可以用此方法制备显微结构良好的PLT陶瓷材料。
作者
王君
郭慧尔
吴志国
牛小宁
蒋生蕊
闫鹏勋
机构地区
兰州大学物理科学与技术学院物理系
出处
《金属材料研究》
2004年第1期49-53,共5页
Research on Metallic Materials
关键词
SOL-GEL法
制备
PLT
纳米薄膜
纳米粉体
溶胶-凝胶
旋涂法
钛酸铅镧
铁电材料
分类号
TM221 [一般工业技术—材料科学与工程]
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金属材料研究
2004年 第1期
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