Sol—Gel法制备PLT纳米薄膜及纳米粉体

采用溶胶-凝胶技术以及旋涂法在ITO/玻璃上制备了PLT纳米薄膜，在PbO气氛中600℃退火1h，通过XRD、FTIR分析以及AFM分析得出，用此方法制备的PLT薄膜晶粒尺寸在30nm．左右，薄膜表面平滑无裂纹，只有钙钛矿结构出现，没有出现其他相。采用同种方法制备的PLT纳米粉体尺寸在20nm左右，这表明，可以用此方法制备显微结构良好的PLT陶瓷材料。